简称光刻技术。它是通过光学系统以投影方法将掩模上的电路图形刻在涂有明胶的硅片上。光刻技术是目前发展得较为成熟的技术。它包括光刻机、掩模、光刻胶等一系列技术，涉及光、机、电、物理、化学、材料等多个研究领域。光刻技术目前已成功应用于微电子电路制作等领域。光刻图形的最小特征尺寸与光刻系统的分辨率相关。图4是比利时根特大学光学中心的科学家采用光刻技术在单晶硅材质上制作的纳米世界地图。

 

原子力显微镜刻画技术

 

　　原子力显微镜刻画技术是利用AFM探针针尖与样品之间的相互作用力，在样品表面刮擦产生纳米尺度的结构。AFM刻画技术要求针尖要极其细小、材料刚硬度要足够大，才能保证操作时不会严重磨损。就是使用美国Hysitron 公司的AFM在晶体铜表面刻画制作而成的尺寸为500×1000μm的纳米台湾地图。但由于受到探针粗细的限制，加工路径周围发生了切屑堆积现像，从而形成中央山脉的形貌。近来，国际材料科学顶级期刊《Advanced Materials》报道了美国IBM公司的科学家应用非常细小的AFM硅探针完成了一项纳米科研成果——三维的纳米世界地图。IBM科学家使用的主要工具就是AFM。印刷（http://www.021yin.cn ）